EUV光刻機在半導體芯片制造中有什么作用?中國還需要EUV光刻機嗎?

快科技 2020-07-08 08:48:28

EUV光刻機是制造7nm以下節點先進工藝的必備工具,目前國內還沒有EUV設備。作為國內最先進的晶圓代工廠,中芯國際董事長周子學日前表態,該公司已經量產和研發的工藝還不需要EUV光刻機。

光刻是半導體芯片制造中最費時間也是最費成本的環節之一,而且它決定了芯片的工藝水平,常說的XXnm工藝主要是看光刻機水平,10nm工藝之后難度越來越大,光刻機也需要升級到EUV級別。

臺積電在第一代7nm工藝上沒有使用EUV光刻機,但是7nm之后的工藝就很難避開EUV光刻機了,理論上可以用多重曝光的方式制造5nm級別的芯片,但是成本、良率都是個問題,無法拒絕EUV光刻機。

目前EUV光刻機只有荷蘭ASML公司才能生產,單臺售價超過1.2億歐元,約合10億元一臺,此前報道稱中芯國際訂購了一臺EUV光刻機用于先進工藝研發,本應該在2019年交付,不過ASML公司一直沒被批準出售。

日前在回應投資者提問時,中芯國際董事長兼執行董事周子學表示,關于設備采購公司依據相關商業協議進行,不對單一設備的采購情況進行評論。公司目前量產和主要在研項目暫不需用到EUV光刻機。

根據中芯國際之前所說,在14nm工藝之后,中芯國際還有N+1、N+2代工藝,其中N+1工藝相比于14nm性能提升20%、功耗降低57%、邏輯面積縮小63%,SoC面積縮小55%,之后的N+2工藝性能和成本都更高一些,這兩個工藝都不需要EUV光刻機。

中國還需要EUV光刻機嗎?中芯國際:量產和研發工藝暫不需要

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